Projeto nos EUA pode ampliar restrições à ASML e limitar venda de máquinas DUV à China

Um projeto de lei bipartidário em discussão nos Estados Unidos pode ampliar as restrições à exportação de equipamentos para fabricação de semicondutores e atingir as vendas da holandesa ASML para a China. A proposta, chamada MATCH Act, busca aproximar os controles adotados por aliados dos americanos e pode alcançar máquinas de litografia DUV (ultravioleta profundo), além de serviços de manutenção de equipamentos já instalados no país asiático.

A ASML já está impedida de fornecer à China seus sistemas mais avançados de litografia EUV (ultravioleta extremo), fundamentais para a fabricação de chips de última geração. A empresa nunca entregou esse tipo de equipamento a clientes chineses após o governo dos Países Baixos bloquear as exportações em 2019.

Nos últimos anos, as restrições passaram a alcançar também determinados modelos DUV, uma tecnologia mais antiga, mas ainda amplamente utilizada pela indústria de semicondutores. A exportação de alguns desses equipamentos da ASML para clientes chineses depende atualmente de licenças do governo holandês.

Apresentado na Câmara dos Representantes dos Estados Unidos, o Multilateral Alignment of Technology Controls on Hardware (MATCH Act) pretende reduzir diferenças entre as regras americanas e as adotadas por países aliados. Se aprovado nos moldes discutidos, o texto poderá permitir que Washington imponha restrições extraterritoriais caso parceiros não harmonizem seus controles de exportação dentro dos prazos previstos.

O alcance definitivo da medida, porém, dependeria da versão aprovada pelo Congresso e de sua regulamentação. Portanto, não há neste momento uma proibição geral confirmada das vendas de equipamentos DUV da ASML à China.

O governo dos Países Baixos já manifestou preocupação com a proposta. Em resposta ao Parlamento holandês, afirmou em maio que apresentou objeções tanto ao governo americano quanto a integrantes do Congresso, especialmente devido ao caráter extraterritorial da legislação. A China respondeu por 33% das vendas da ASML em 2025, participação que a companhia estimou que cairia para cerca de 20% em 2026.

Ao mesmo tempo, Pequim tenta diminuir sua dependência de fornecedores estrangeiros. Uma empresa estatal de Xangai iniciou a produção de equipamentos próprios de litografia DUV por imersão, segundo informações publicadas em julho pela Reuters e pelo site especializado The Information.

A fabricante foi identificada pela Reuters como Shanghai Aishengna Electronic Technology Group. O projeto reuniu equipes de diferentes empresas chinesas do setor, entre elas a Shanghai Yuliangsheng Technology. A previsão é fabricar cerca de cinco máquinas em 2026 e elevar a produção para aproximadamente 20 unidades em 2027.

Os primeiros equipamentos devem ser destinados a fabricantes chinesas como SMIC, Hua Hong Semiconductor e ChangXin Memory Technologies (CXMT). As máquinas, contudo, ainda precisam passar por testes e permanecem atrás dos sistemas concorrentes da ASML em desempenho, segundo as informações disponíveis.

A produção doméstica, portanto, ainda não elimina a dependência chinesa da tecnologia estrangeira. Seu avanço ganha relevância justamente no momento em que os Estados Unidos discutem formas de restringir ainda mais o acesso da China a equipamentos ocidentais usados na fabricação de semicondutores.